1. September 2022

Ausschreibung Artist in Residence für Februar 2023

Reaktanz mit Atelier „Schnittstelle“. ©DIAF/Till Grahl
Reaktanz mit Atelier „Schnittstelle“. ©DIAF/Till Grahl

Das Deutsche Institut für Animationsfilm (DIAF) schreibt für den Zeitraum 1. bis 28. Februar 2023 ein Projektstipendium als „Artist in Residence“ für einen Recherche- und Arbeitsaufenthalt zur Realisierung eines künstlerischen Vorhabens aus.

Die Ausschreibung richtet sich an aufstrebende Künstlerinnen und Künstler aus dem deutschsprachigen Raum aus dem Bereich künstlerischer Animationsfilm. Sie sollten einschlägig qualifiziert sein.

Was wir bieten

Die Unterbringung erfolgt in einem Künstlerapartment mit eigenem Bad und Gemeinschaftsküchennutzung des Europäischen Zentrums der Künste HELLERAU. Die Kosten der Unterbringung werden vom DIAF übernommen. Geboten werden neben der Unterkunft:

  • ein Unterhaltszuschuss von € 1.000,
  • eine Materialpauschale von bis zu € 500,
  • Reisekosten bis zur Höhe von € 200.

Wirkungsort ist das Reaktanz-Gebäude auf dem Gelände des Kraftwerks Mitte – einem kulturellen Hotspot im Zentrum von Dresden. Der historische Industriebau wurde in ein Medienkulturhaus umgewandelt, das mehrere Vereine beherbergt, die im Rahmen des Residenz-Programms kooperieren. Das „Schnittstelle“ genannte Atelier mit großer Fensterfront im Erdgeschoss sowie die Ausstellungsräume werden vom Medienkulturzentrum (MKZ) zur Verfügung gestellt. Tonstudios und Technik des MKZ können gegen Gebühr genutzt werden.

Die Räumlichkeiten sowie die Ausrüstung des Trickfilmstudios Fantasia stehen abhängig von der Verfügbarkeit unentgeltlich zur Nutzung bereit.

Der Gastkünstlerin oder dem Gastkünstler wird Zugang zu den Beständen des Archivs und zu den Ausstellungen des DIAF in den Technischen Sammlungen sowie zur filmwissenschaftlichen Bibliothek des DIAF in dessen Geschäftsstelle gewährt.

Reaktanzenhaus vom Wettiner Platz aus gesehen. ©DIAF/Tanja Tröger

Reaktanzenhaus vom Wettiner Platz aus gesehen. ©DIAF/Tanja Tröger

Was wir erwarten

Eine öffentliche Präsentation des abgeschlossenen Projekts oder anderer Arbeiten wird angestrebt (Ausstellung, Vorführung usw.). Die Organisation von Veranstaltungen im Zusammenhang mit dem Projektstipendium erfolgt in Zusammenarbeit mit der Geschäftsführung des DIAF.

Es wird von der Künstlerin oder dem Künstler erwartet, dass sie oder er sich im Rahmen der von Fantasia veranstalteten internationalen Workshop-Reihe „Anima“ (13.–24.02.2023) in geeigneter Form, z. B. in Werkstattgesprächen, als Gastdozent oder Mentor, beteiligt.

Bewerbung & Auswahl

Eine Bewerbung enthält einen resümierenden Lebenslauf und eine aussagekräftige Projektskizze und ist bis 30. September 2022 zu richten an:

Deutsches Institut für Animationsfilm
Dr. Till Grahl, wissenschaftlich-künstlerischer Leiter
Kraftwerk Mitte Haus 3 „Reaktanz“, 01067 Dresden
t.grahl@diaf.de

Von Bewerbungsfotos bitten wir abzusehen. Wir begrüßen Bewerbungen von Menschen aller Nationalitäten, Religionen, sexueller Identitäten, Altersgruppen und sozialer Hintergründe. Die Geschäftsstelle des DIAF ist nicht barrierefrei.

Ausschreibung als pdf (40 kB)

Die Auswahl obliegt einer aus dem Vorstand und der Geschäftsführung des DIAF zusammengesetzten Jury. Bei gleicher Eignung erhalten Künstlerinnen und Künstler mit Behinderung den Vorrang. Die Entscheidung dieses Auswahlgremiums ist nicht anfechtbar und wird den Bewerberinnen und Bewerbern zeitnah mitgeteilt.

Über das DIAF

Das Deutsche Institut für Animationsfilm, gegründet 1993 in Dresden, ist als bundesweit einzigartige Sammlungs- und Informationsstätte zum Animationsfilm drei Hauptaufgaben verpflichtet: Archivierung, Forschung und Präsentation. Das Archiv bewahrt seit 1993 regionales und nationales Filmerbe von 1930 bis heute und hat insbesondere mit seiner einzigartigen Sammlung zum DEFA-Studio für Trickfilme Dresden internationale Bedeutung. Zu den Beständen des DIAF gehören heute Filmkopien, Zeichentrick-Folien, Puppen- und Silhouettenfiguren, Entwürfe zu Figuren, Szenen und Hintergründen sowie eine Fotosammlung.